Device for matching lower electrode of vacuum chamber using of semiconductor etching

반도체 식각 용 진공 챔버의 하부전극 정합장치

Abstract

본 발명은 반도체 식각용 진공챔버의 하부전극 정합장치에 관한 것으로, 고주파 전원을 공급받아 플라즈마를 발생하는 반도체 식각용 진공 챔버에서 고주파 전원이 공급되는 하부전극의 임피던스와 상기 진공챔버와의 임피던스를 정합시키는 정합장치에 있어서, 상기 고주파 전원에, 상기 고주파 전원과 진공챔버와의 임피던스를 동조하기 위해 가변코일(L1)이 접속되고; 상기 가변코일(L1)에 병렬로 임피던스를 가변하는 부하코일(L2)이 접속되고; 상기 가변코일(L1)과 상기 부하코일(L2)의 접속점과 상기 하부전극 사이에 상기 진공챔버의 이상방전을 차단하는 콘덴서(C1)가 접속됨으로써, 상기 하부전극의 임피던스와 진공 챔버의 임피던스와의 효율적인 정합이 이루어져 진공챔버에 공급되는 고주파 전력 손실을 방지하는 효과는 물론 진공챔버의 이상 방전에 의한 안정성을 확보할 수 있는 효과를 제공해 줄 수 있다.
PURPOSE: A lower electrode matching box is provided to prevent power losses of a lower electrode of a chamber due to harmonics interference from an upper electrode of the same by comprising a matching circuit having a wide impedance range on the lower electrode. CONSTITUTION: A lower electrode matching box of a vacuum chamber comprises an RF(Radio Frequency)-generator(10) supplying RF-power, the vacuum chamber(20) generating plasma when supplying RF-signal to an upper and a lower electrodes(12), and a matching circuit(30) matching in low impedance range of the vacuum chamber(20). The matching circuit further includes a variable inductor(L1) synchronizing an impedance between the RF-generator(10) and the vacuum chamber(20), a load inductor(L2) varying an impedance, while contacting to the variable inductor(L1) in parallel and a condenser(C1) connected with the load inductor(L2) removing an abrupt discharge of the vacuum chamber(20).

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